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设计为何:托尼克视觉设计展

托尼克:妮基·冈尼森,托马斯·威德肖温2019.03.29-06.02

上海当代艺术博物馆

上海当代艺术博物馆
上海, 中国

2019年3月30日至6月2日,上海当代艺术博物馆设计中心psD(powerstation of DESIGN)举办“设计为何:托尼克视觉设计展”。借助旗帜、织毯、动态投影等非常规的展出方式,展览将回看荷兰设计团队托尼克(thonik)过往25年设计生涯的14组代表作品。面向一个跨媒介更迭视觉传播的时代,“设计为何”掷地有声地抛出了一个迫切的问题,即平面设计作为一种媒介在数字化时代的今天的本质与意义,以及设计工作者当今的身份现状。

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  • 标题: 设计为何:托尼克视觉设计展
  • 创作者: 托尼克:妮基·冈尼森,托马斯·威德肖温
  • 创作日期: 2019.03.29-06.02
上海当代艺术博物馆

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